主要用途：本設備主要用于大院校研究和開發納米單層膜；如各種硬質膜、金屬膜；也可以是非金屬、化合物等薄膜材料。可以行直接濺射，亦可以實現反應濺射。
主要點：結構簡捷、操作簡便，真空度維護，安可靠。
鍍膜機應安裝在干凈無塵埃、無腐蝕性氣體的室內，并具備清潔水源、及220V的穩定電壓等條件的地方。
1、地面的基本水平度要經過調整，不得低不平；
2、環境溫度：10℃～30℃；
3、相對濕度：不大于75%；
4、耗水量（水溫度≤25℃，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h；
5、水質要求：
矽酸硬度<6度，PH值：7－8，電導率：200us/cm,沉積率：<200mg/L。
6、電壓： 220V，50HZ，
電壓波動范圍： 198～231V；
頻率波動范圍：49～51Hz;
7、水壓：0.3～1Kg/cm2或0.03～0.1MPa/cm2;
8、充入氣體純度99.9%或以上;
9、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。